赤外線単結晶育成装置(シャフトシール:磁性流体タイプ)

  標準型である赤外線単結晶育成装置(FZ法-Floating Zone Method)のシャフトシール部に磁性流体シールを採用し、高純度雰囲気を高圧条件下まで連続して維持できる画期的な装置で、わずかな残存ガスおよび少しの漏れも許されない金属材料の単結晶育成に最適です。


FZ-T-12000-X-VII-VPM-PC
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(1) 四個の楕円鏡を用いた均質な加熱を実現
(2) 磁性流体シールを採用し、長時間の安定した高品質雰囲気を実現
(3) 磁性流体シールの保護機構と高圧型ベローズを採用
6.7 x 10-3Paまでの高真空に排気後、そのまま最高0.95MPaまでの任意の高圧条件下で連続して安定した単結晶育成を可能にしております。
(4) パソコンを用いた遠隔操作とスムースな操作環境を実現

操作画面

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