株式会社クリスタルシステム Crystal Systems Corporation Crystal System Co., Ltd. 単結晶製造装置 赤外線FZ法

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〒408-0044 山梨県北杜市小淵沢町9633番地1

TEL 0551-36-5271 / FAX 0551-36-5273

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特別仕様光学式加熱装置

キセノン型超高温加熱装置・・・(特徴)キセノンランプを用いることで、高融点サンプルの溶融や温度測定を行うことができます。

 

高融点ガラス化装置・・・(特徴)FZ装置と、急冷ローラー装置を組み合わせることで、高融点物質のガラス化実験への応用が可能となっています。

高融点ガラス化装置

溶解された試料を急冷することによりガラス化することができる装置です。加熱源はキセノンランプ、ハロゲンランプ、レーザを選択することができ、急冷方式はローラー型、ハンマー型があります。急冷ローラー装置が内蔵されたモデルでは、チャンバー内の雰囲気制御も可能です。
高融点ガラス化装置
#ガラス #ガラス化 #急冷ローラー

キセノン型超高温加熱装置

加熱源にキセノンランプを使用し、楕円鏡による集光を行うことで、短時間に試料の加熱や溶解を行うことができる装置です。試料の温度測定や加熱状態の観察を行うことができ、データの記録や保存が可能です。
キセノン型超高温加熱装置
#キセノン #ランプ #加熱装置 #溶融 #高温
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