株式会社クリスタルシステム Crystal Systems Corporation Crystal System Co., Ltd. 単結晶製造装置 赤外線FZ法

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〒408-0044 山梨県北杜市小淵沢町9633番地1

TEL 0551-36-5271 / FAX 0551-36-5273

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  3. 光学式浮遊帯域溶融装置

光学式浮遊帯域溶融装置

光学式浮遊帯域溶融装置は、光で材料を溶かしながら高純度の単結晶を作る装置です。

「浮遊帯域」とは、原料棒と結晶の間の部分的に溶けた領域(溶融体)が表面張力のみで保持されている(=浮遊している)状態を指します。
この溶融帯を移動させながら結晶を成長させることで、不純物が少なく高品質な結晶育成が可能となります。

 

■仕組み

原料棒を光で溶かし、溶けた部分(溶融帯)を移動させながら結晶を成長させます。
原料棒と種結晶をセットし、光で加熱・溶融します。
溶融帯を移動させ、種結晶の上に単結晶を成長させます。

 

■利点

不純物が少ない高純度な結晶を作れます。
様々な材料の結晶育成が可能です。
結晶の組成を細かく調整できます。
いろいろな雰囲気での育成が可能

四楕円鏡型(ハロゲン型・キセノン型)

四個の楕円鏡を用いている為、均質に原料を融解し、長時間の安定した条件下で単結晶育成を継続する事により、高品質単結晶を容易に作成可能にしたFZ法(Floarting Zone method)単結晶育成装置シリーズです。 パソコンを用いた遠隔操作が可能で再現性にも優れ、複雑な組成の単結晶育成において圧倒的な優位性を発揮します。
四楕円鏡型(ハロゲン型・キセノン型)
#ランプ加熱 #四楕円 #フローティングゾーン #FZ #るつぼレス

レーザ型(標準型・高圧型)

当社のレーザFZ法装置は局所加熱で溶融部以外の熱影響を抑え、多様な材料の結晶化に対応します。放射温度計と映像によるリアルタイム監視で、安定的かつ再現性のある成長を実現します。
レーザ型(標準型・高圧型)
#フローティングゾーン #FZ #るつぼレス #レーザ加熱 #蒸発抑制 #高圧

原料棒成形関連装置

光学式浮遊帯域溶融装置に必要とされる、様々な付帯装置をラインナップしております。
原料棒成形関連装置
#原料棒 #真空引き #風船 #均一に圧力が掛かる #静水圧 #回転昇降機 #ブリッジマン炉
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