株式会社クリスタルシステム Crystal Systems Corporation Crystal System Co., Ltd. 単結晶製造装置 赤外線FZ法

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溶融

キセノン型超高温加熱装置

加熱源にキセノンランプを使用し、楕円鏡による集光を行うことで、短時間に試料の加熱や溶解を行うことができる装置です。試料の温度測定や加熱状態の観察を行うことができ、データの記録や保存が可能です。
キセノン型超高温加熱装置
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