四個の楕円鏡とランプを用いている為、均質に原料を融解することができ、安定した単結晶育成を継続することができます。

ハロゲンランプ

ハロゲンランプは150Wから最大1500Wまで多くの種類を用意しております。試料のサイズや溶融温度に合わせて最適なランプを選択して安定な溶融域の形成を実現できます。

キセノンランプ

キセノンランプは3000Wの出力があり高融点の材料を溶融することができます。

真空ポンプ（オプション）を使用することで6.7×10-3Pa以上の高真空にすることができます。
また、育成時に0.95MPaの高圧雰囲気下での結晶育成が可能です。

尚、真空ポンプの目的は、アルゴン、窒素へのガス置換用であり、真空雰囲気下での結晶育成は、結晶育成部であり石英管（チャンバー）が変形する可能性がある為、保証範囲外となります。

操作はPCで容易に出来、リモート操作用の専用ソフトにより、別の場所からのリモート操作が可能です。また、一部は手動での操作も可能となっております。

ログの記録や育成画面の録画も可能です。

装置インストール時のトレーニング（１～２日）で使用方法の理解が出来る、世界中の研究者からご好評を頂いている、使い易い設計となっております。

お客様のご要望により、カスタマイズが可能です。

例

• ガスガイド（ハロゲン、キセノン、レーザFZ）
• アフターヒーター・ユニット（レーザFZ、ハロゲンのみ）
• 遮蔽筒（キセノンタイプのみ）

トラブル等に対しては、１～２日以内に対応を開始します（リモート対応の場合もあり）。
20年以上ご使用の装置に対しても、誠実・丁寧に対応させて頂きます。
他社製の装置もサポート致します。